Leseprobe
Inhaltsverzeichnis
Symbol- und Abkürzungsverzeichnis
1 Einleitung
2 Grundlagen zum Depositionsverfahren
2.1 CVD Verfahren
2.2 Filmwachstum
2.3 Reaktoraufbau
3 Grundlagen zur Charakterisierung der Proben
3.1 Messung am Ellipsometer
3.2 Oberflächenuntersuchung am AFM
4 Probenpraparation
5 Darstellung und Diskussion der Ergebnisse
5.1 Untersuchung der Depositionsrate und der Brechzahl
5.1.1 Depositionsrate
5.1.2 Brechzahl
5.2 Topografische Aufnahmen am AFM
6 Zusammenfassung
Literatur
Abbildungsverzeichnis
Tabellenverzeichnis
Ende der Leseprobe aus 51 Seiten
- Arbeit zitieren
- Stefan Zaengler (Autor:in), 2014, Plasmaunterstützte Abscheidung und Charakterisierung von Siliziumnitridfilmen, München, GRIN Verlag, https://www.grin.com/document/1001886
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